Сполучені Штати Америки розробляють новий механізм тиску на Нідерланди, спрямований на обмеження експорту передових технологій виробництва чипів до Китаю. Цей крок може фактично перекрити Пекіну доступ до майже всіх літографічних систем нідерландської компанії ASML, яка є світовим лідером у цій галузі.
Законопроєкт MATCH Act, що розглядається у Конгресі США, передбачає зобов'язання для союзників Америки синхронізувати свої експортні обмеження з американськими. У разі його ухвалення, ASML може втратити можливість не лише продавати Китаю нові, але й обслуговувати вже встановлені старіші моделі літографічного обладнання. Наразі компанія вже не може постачати китайським замовникам найсучасніші EUV-системи та просунуті версії DUV-систем, проте експорт більш старих DUV-установок ще дозволений.
Вплив на китайську напівпровідникову промисловість
Для Китаю обмеження експорту літографічного обладнання є особливо чутливим питанням. DUV-літографія залишається важливою частиною місцевого виробництва напівпровідників. Китайські компанії навчилися поєднувати ці установки з передовими технологіями травлення для випуску ефективніших чипів, які зазвичай вимагають EUV-технологій. Втрата доступу до нових DUV-систем та можливості їх обслуговування може суттєво сповільнити розвиток китайської напівпровідникової галузі.
Залежність ASML та попередній тиск США
Компанія ASML значною мірою залежить від американських компонентів у своєму виробничому ланцюжку. Це дає Вашингтону важелі впливу на Нідерланди. Раніше США вже використовували погрози обмежень поставок цих компонентів як інструмент тиску на Амстердам для узгодження експортної політики щодо Китаю.